正航
Accelrys Materials Studio Modeling V4.0 材料模擬計算 英文精簡版
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軟體名稱: Accelrys Materials Studio Modeling V4.0
語系版本: 英文精簡版
光碟片數: 單片裝
保護種類: 授權檔
破解說明: 見最底下
系統支援: Windows 2000(SP4)/XP(SP1 以上)
硬體需求: http://www.accelrys.com/products/mstudio/sysreqs.html
軟體類型: DXF、DWG 轉案互轉
更新日期: 2006.03.04
軟體發行: Accelrys(L.ND)
官方網站: http://www.accelrys.com/mstudio
中文網站: http://www.chem121.com.tw/ViewProduct.php?ID=6858&__cf_change=no&L=C
軟體簡介: (以官方網站為準)
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Accelrys Materials Studio 專門為材料科學模擬所設計，能方便的建立 3D 分子
模型，深入分析有機、無機晶體、無定形材料以及聚合物，可以在催化劑、聚合物
、固體化學、結晶學、晶粉衍射以及材料特性等材料科學研究領域進行性質預測、
聚合物模型建製和 X 光衍射模擬， 操作靈活方便，並且最大限度地運用網路資源
功能
DISCOVER
分子力學和動力學程式。基於力場計算出最低能量構型、分子體系的結構和動力學
軌跡等
COMPASS
對凝聚態材料進行原子水平模擬的力場。可以在很大的溫度、壓力範圍內精確地預
測孤立體系或凝聚態體系中各種分子的結構、構象、振動以及熱物理性質。
Reflex
模擬晶體材料的 X 光、中子以及電子等多種粉末衍射圖譜
DMol3
密度泛函程式，可用於研究均相催化、多相催化、分子反應性、分子結構等，也可
預測溶解度、蒸氣壓、配分函數、溶解熱、混合熱等性質
CASTEP
量子力學程式，應用於陶瓷、半導體、金屬等多種材料，可研究晶體材料的性質、
表面和表面重構的性質、表面化學、電子結構【能帶及態密度】、晶體的光學性質
、點缺陷性質【如空位、間隙或取代摻雜】、延展缺陷【晶粒間界、位錯】、體系
的 3D 電荷密度及波函數等。
VAMP
半經驗的分子軌道程式，適用於有機和無機的分子體系
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站長安裝測試環境與安裝說明:
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‧測試環境 Windows XP Service Pack 2 繁體中文專業版、P4-2.8G 中央處理器
、512Mb 記憶體、NTSF 格式 80.0Gb 硬碟。
‧執行 Autorun.exe 安裝，安裝完成後把光碟 \授權檔 資料夾裡的 msilic.lic
複製到剛才 Accelrys Materials Studio 安裝完成的資料夾裡去，不知道該複製
到哪裡去的話，msilic.lic 檔案的預設位置在
C:\Program Files\Accelrys\License Pack\Licenses 資料夾裡
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正航產品名稱：WinRAR v3.80 beta 1 繁體中文正式版(檔案壓縮軟體)
產品名稱：世界標準舞冠軍表演精選輯 06 英語發音 繁體中文字幕 影片教學版
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